超純水設(shè)備凈化法流程描述

　　電子、半導(dǎo)體工業(yè)的芯片生產(chǎn)在制作過程中，往往需要使用極其純凈的超純水。如果純水水質(zhì)達(dá)不到生產(chǎn)工藝用水的要求或者水質(zhì)不穩(wěn)定的話，會(huì)影響到后續(xù)工藝的處理效果和使用壽命。此外，晶元清洗和機(jī)械碾磨過程中都會(huì)產(chǎn)生廢水，造成對(duì)環(huán)境的污染。
　　通過使用超濾、反滲透、EDI和核子級(jí)離子交換系統(tǒng)來生產(chǎn)滿足需求的超純水。并將生產(chǎn)過程中所產(chǎn)生的廢水經(jīng)過膜系統(tǒng)的處理進(jìn)行回收再利用，在很大程度上減少了電子、半導(dǎo)體行業(yè)的用水量、降低了生產(chǎn)成本。
　　微電子行業(yè)包括了電解電容器生產(chǎn)、電子管生產(chǎn)、顯像管和陰極射線管生產(chǎn)、黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、液晶顯示器的生產(chǎn)、晶體管生產(chǎn)、集成電路生產(chǎn)、電子新材料生產(chǎn)等生產(chǎn)工藝，都需要工業(yè)超純水。傳統(tǒng)化學(xué)及介質(zhì)過濾生產(chǎn)超純水的方法，會(huì)因在水中添加各種化學(xué)劑，制備過程冗長(zhǎng)等各種因素造成產(chǎn)水的不穩(wěn)定，無法確保長(zhǎng)期、穩(wěn)定的超純水。
　　采用“物理”凈化法(超濾→反滲透→EDI→拋光混床)，使超純水設(shè)備從傳統(tǒng)的陽離子交換器、脫碳、陰離子交換器、復(fù)合離子交換器等發(fā)生了一次革命，從此進(jìn)入了一個(gè)無需再生化學(xué)品的時(shí)代。膜法制備出來的工業(yè)純水，其純度可達(dá)到18MΩ·CM，且系統(tǒng)穩(wěn)定，使用壽命長(zhǎng)，且生產(chǎn)過程所產(chǎn)生的廢水又可回用再生。
 

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